Manufacturer

High Purity V Vanadium Plate Sputtering Target

USD 20,00 – 200,00 / piece
Цена зависит от количества и характеристик
Мин. кол. 1 piece
Наличие 0 piece
Категория Electronics
Оформить заказ
Торговая гарантия
Своевременная доставка
Образец доступен
Сертифицированный поставщик
12
Лет
98%
Ответ
24h
Ответ

Описание товара

This high purity vanadium plate sputtering target is manufactured with 99.9% to 99.95% purity and is suitable for thin film deposition applications. It is customizable in size, comes with TUV, ISO, and CE certifications, and includes a certificate for each target.
High Purity V Vanadium Plate Sputtering Target
High Purity V Vanadium Plate Sputtering Target

Технические характеристики

Model NO.XK-V
TypeMetal Target
CertificationTUV, ISO, CE
Purity99.9%-99.95%
SizeCustomized
MOQ1 PC
Free SampleAccept
PackingWooden Case
CertificateProvide for Each Target
Transportby Air
Delivery5-10 Days
Transport PackageVacuum Sealed
Specificationcustomized
Trademarkno
OriginChina
HS Code8486909900
Быстрый запрос
Отправить прямой запрос этому поставщику
High Purity V Vanadium Plate Sputtering Target
High Purity V Vanadium Plate Sputtering Target
USD 20,00 / piece
piece